1.2.1 LOCOS隔离

在制程中，为了实现各元器件的隔离，硅衬底表面的某些区域被选择性地氧化，而其余区域不被氧化，这就是硅的局部氧化。P-Well CMOS制程形成隔离剖面结构如图1-1所示（略去背面和侧面结构）。硅衬底经热氧化后，淀积一层Si₃N₄膜；形成隔离图形后，通过沟道截止注入（或称场区注入）硼，形成场区；场氧化后，腐蚀掉SiON/Si₃N₄/SiO₂（简称三层腐蚀）就完成了隔离。选择抗氧化能力强的Si₃N₄作为选择氧化掩模。Si₃N₄在水汽中的氧化反应是

Si₃N₄+6H₂O→3SiO₂+4NH₃↑

此过程要比Si与H₂O的反应慢得多，只要选择适当的Si₃N₄厚度，就可使氧化终了时Si₃N₄仍保留一定的厚度，不致全部转化为 SiO₂，从而使 Si₃N₄下面的硅受到保护，而裸露的硅则被氧化。Si₃N₄的厚度与由它转化成的SiO₂的厚度的关系为：。这一工序称为硅的局部氧化（LOCOS）或场区氧化。这种LOCOS隔离的缺点是形成被称为“鸟嘴”的突出的过度氧化区，其原因是氧化侵入到Si₃N₄膜之下，它是妨碍提高集成度的重要原因之一。

为了提高并控制场阈电压U_TF，对场区先注硼，后氧化。在高温长时间氧化下，注入的硼要发生推进，温度越高，推进越深。但若场氧化温度低，则引起“鸟嘴”明显增长。因此，选用场氧化的温度要合适。在该温度下，可以达到：场区注硼的推进要少得多，从而显著地减小窄沟道效应，避免跨导下降，有利于电路性能的提高；减轻有源区周围出现的“白带”效应；“鸟嘴”长度较短，不影响有源区尺寸。在一定的场区注入下，U_TF只需要高出电路中最高的电源电压的1.5～2.0倍，场氧化层（6000～12000Å）不要太厚，否则，将导致严重的“鸟嘴”效应，直接影响有源区尺寸。因此，场氧化层厚度选取要适当。

调节沟道截止注入（或场区注入）剂量和注入深度，使得场氧化后有足够的硼留在紧靠氧化层的硅中。应指出，如果场掺杂浓度太高，会增加源、漏对衬底的电容，降低结-地击穿电压（增加阈值电压对窄-宽效应的敏感性）。所以，要选择合适的场区注入剂量。

场氧化和后续的热加工会引起场区注入的杂质的严重横向扩散，此扩散使得靠近 Si₃N₄四周的表面浓度提高。因此，对于W/L＜1的器件，阈值电压升高（窄沟道效应）。对于一定的场氧化层厚度，如场氧化温度较低，则场注入的杂质的横向扩展小。另一个问题是，Si₃N₄掩蔽层下面有横向氧化，所以有源区之间的距离在场氧化后变大。为此，在制版时要把有源区尺寸扩大（即有源区间距缩小），从而弥补横向氧化所造成的损失。